大尺寸濕法處理系統

1. 生產廠家：德國Osiris
2. 產品型號：CHEMIXX 760

● CHEMIXX 760系統是一款大尺寸濕法系統，支持最大樣品達535X535mm(21寸方片)，更大的樣品尺寸可定制，一臺系統可實現清洗、蝕刻 、顯影 ，干燥整個工藝過程。...

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濕法刻蝕專用系統

1. 生產廠家：德國Osiris
2. 產品型號：CHEMIXX E 30Pm

● CHEMIXX E 30 濕法刻蝕系統專門用于掩膜版與晶圓的刻蝕與清洗，安全性能好，可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液體。...

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CMP后雙面清洗機

1. 生產廠家：德國Osiris
2. 產品型號：CHEMIXX CMP 30pm

● CHEMIXX CMP 30pm是一款專門為晶圓雙面清洗設計的系統，獨立系統，占地面積小，非常適合有限的空間。具有4路化學液清洗，兆聲清洗，雙面PVA刷洗，去離子水沖洗等清洗模塊，對晶圓有頂級的清洗能...

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標準濕法處理系統

1. 生產廠家：德國Osiris
2. 產品型號：CHEMIXX 30pm

● CHEMIXX 30pm濕法臺是一款半自動單面濕法系統，主要用于晶圓或者方片的清洗，刻蝕，顯影等應用，其中清洗部分具有化學清洗，兆聲清洗，PVA刷洗，高壓DI水沖洗，背部清洗等多種功能。...

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12寸晶圓顯影機

1. 生產廠家：德國Osiris
2. 產品型號：UNIXX DB20/30

● UNIXX DB30 型晶圓顯影機是一款針對12寸及以下尺寸晶圓的半自動系統，系統可集成顯影，清洗，干燥等模塊，同時可用于方片顯影，最大尺寸230mm*230mm。...

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8寸晶圓顯影機

1. 生產廠家：德國Osiris
2. 產品型號：UNIXX D20

● UNIXX DB20 型晶圓顯影機是一款針對8寸及以下尺寸晶圓的半自動系統，系統可集成顯影，清洗，干燥等模塊，同時可用于方片顯影，最大尺寸150mm*150mm。...

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手動晶圓烘焙熱板系統

1. 生產廠家：德國Osiris
2. 產品型號：UNIXX HTp20

● UNIXX HTp20型熱板是一款手動桌面型烘焙系統，采用手動PID控制器和定時器開關可確保高的溫度控制精度。用于晶圓的單面烘烤，可用于預烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底膠涂覆...

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半自動晶圓烘焙熱板系統

1. 生產廠家：德國Osiris
2. 產品型號：UNIXX HTe20

● UNIXX HTe20型熱板是一款桌面型半自動烘焙系統，用于晶圓的單面烘烤，可用于預烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底膠涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake...

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立式半自動晶圓烤膠系統

1. 生產廠家：德國Osiris
2. 產品型號：UNIXX He45

● UNIXX He45型熱板是一款立式半自動烘焙系統，用于晶圓的單面烘烤，可用于預烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底膠涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake堅膜...

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